開催概要

開催概要

■ 名 称  :  ASTEC 2012 第7回 先端表面技術展・会議
■ 日 時  :  2012年2月15日(水)~17日(金)
■ 会 場  :  東京ビッグサイト東6ホール&会議棟
■ 主 催  :  ASTEC 実行委員会
         委 員 長  :  鷲尾 方一 (早稲田大学 理工学術院・総合研究所 理工学研究所 教授)
         委 員  :  大岩 烈 (オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社 代表取締役社長)
折笠 輝雄 (フュージョンUVシステムズ・ジャパン株式会社 代表取締役社長)
大高 亨 (JSR株式会社 情報電材事業開発部 参事)
富永 幸溢 (ラドテック研究会 事務局長 有限会社トミナガコーポレーション 代表取締役社長)
中森 秀樹 (ナノテック株式会社 代表取締役社長)
広中 清一郎 (首都大学東京 大学院 非常勤講師/ 材料技術研究協会理事)
松井 真二 (兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長)
水本 宗男 (一般社団法人ナノテクノロジービジネス推進協議会 事務局次長)
宮下 徳治 (東北大学 多元物質科学研究所 教授)
村田 和広 (独立行政法人 産業技術総合研究所 フレキシブルエレクトロニクス研究センター 機能発現プロセスチーム チーム長)
山下 泰久 (株式会社東陽テクニカ 分析システム営業部 課長)
川島 政彦 (旭化成株式会社 新事業本部 新事業企画開発室 マネージャー)
■ 事務局  :  松井 高広(ICSコンベンションデザイン 取締役)
■ 後 援  :  経済産業省 (前回実績)
■ 協 賛  :  日本表面科学会、日本真空協会、社団法人日本トライボロジー学会、ラドテック研究会 (前回実績)
■ 展示規模  :  50企業・団体 60小間 (予定)
■ 予定来場者数  :  50,000名  ※同時開催展含む
■ 入場料  :  3,000円(但し、Webサイトで事前登録された方は入場無料)
■ 同時開催
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SURTECH 2012 表面処理材料総合展

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